C-112

用途：全方位地應對半導體封裝、晶元BGA/CSP（PBGA/CABGA/LFBGA/SBGA/TABGA）/BSM/SMF等各種**烘烤工藝需求。特征：

• 可在10級和100級等各種環境中使用，2工作室設置可節約廠房的有效使用空間。氮氣使用時的氧氣殘留量在100PPm以下。
• 各工作室內置6點溫度傳感器，分別運行、獨立控制，隨時使用，全方位對應。
• 溫度調節控制器、氮氣導入口、過熱保護器、流量控制、外部數據端子、溫度記錄儀等設備分別獨立配置，并能對箱體進行快速冷卻，全過程可99段30套編程，全自動運行。