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產(chǎn)品[
單片IR式凈化燒成爐
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單片IR式凈化燒成爐
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CCBS-IR
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簡單介紹
單片IR式凈化燒成爐 Clean structure with no dust caused by itself Far-infrared radiation(IR) heating system has been adopted.
單片IR式凈化燒成爐
的詳細介紹
單片IR式凈化燒成爐:
Clean structure with no dust caused by itself
Far-infrared radiation(IR) heating system has been adopted.
The process with high efficiency is available for various kinds of the film thickness.
The IR panel heater with excellent temperature uniformity has been adopted.
The uniform heating is available for such a large substrate as the 10th Generation.
By introducing N2 gas into the oven, it is available to have a heating process under low Oxygen(O
2
) density.
Available glass size
~W3000×L3200mm
Temperature range
80~250℃
Temperature uniformity
±3℃
Cleanliness
Class 10 (0.3μm)
Applications
Baking of Polyimide coating, Annealing,
Baking of passivation film, Seal main curing/pre curing
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